TN-G1100ZC高真空CVD管式爐

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關鍵詞: 高真空CVD管式爐           

摘要

產品名稱	高真空CVD管式爐
產品型號	TN-G1100ZC
產品簡介	
主要用于電子陶瓷產品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積(CVD)工藝等

產品介紹

TN-G1100ZC型高真空CVD管式爐

該儀器是一個三溫區真空管式爐主要用于大專院校、科研院所、工礦企業等試驗和小批量生產之用。主要用于電子陶瓷產品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積(CVD)工藝等。

儀器的控制系統采用原裝進口產品,具有操作容易,安全可靠,控溫精度高(專家PID控制),保溫效果好,溫度范圍大,爐膛溫度均勻性高,溫區多,可通氣泵,抽真空等特點。

 

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產品名稱

TN-G1100ZC型高真空CVD管式爐

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產品型號

TN-G1100ZC-503        爐膛尺寸:直徑50x300mm

TN-G1100ZC-603        爐膛尺寸:直徑60x300mm

TN-G1100ZC-803        爐膛尺寸:直徑80x300mm

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爐門結構

開啟式

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上限溫度

1200℃

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工作溫度

≤1100℃

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加熱溫區

三溫區

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   溫區長度

220mm

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恒溫區長

100mm

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爐管材質

301S不銹鋼管(可選剛玉管)

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密封方式

不銹鋼真空法蘭

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氣密性

真空法蘭和石英爐管的氣密性可達4.03x10-3Pa

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控溫方式

智能化30段可編程控制,自動控溫

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控溫精度

±1℃

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加熱速率

≤20℃

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加熱元件

硅碳棒

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熱電偶

K型熱電偶

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爐膛材料

進口氧化鋁陶瓷纖維

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功率

2.5Kw

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電壓

220V  50Hz-60Hz 

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系統真空

5~10Pa(需要達到其它真空度時,需選配不同的抽真空裝置)

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售后服務

12個月質保,終身保修

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