TN-G1200ZC管式爐CVD系統

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關鍵詞: 管式爐CVD系統           

摘要

產品名稱	管式爐CVD系統
產品型號	TN-G1200ZC
產品簡介	
廣泛用于各種反應溫度在1100℃左右的CVD實驗,也可用于:真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領域。

產品介紹

TN-G1200ZC型1200℃管式爐CVD系統

該儀器可廣泛用于各種反應溫度在1100℃左右的CVD實驗,也可用于:真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領域。

技術參數:

1

產品名稱

TN-G1200ZC 型1200℃管式爐CVD系統

2

產品型號

TN-G1200ZC -503 工作室尺寸:直徑50x300mm

TN-G1200ZC -603 工作室尺寸:直徑60x300mm

TN-G1200ZC -803 工作室尺寸:直徑80x300mm

3

顯示模式

觸摸屏顯示

4

爐膛模式

開啟式

5

上限溫度

1200℃

6

工作溫度

≤1100℃

7

加熱溫區

單溫區

8

溫區長度

200mm

9

恒溫區長

100mm

10

爐管材質

石英管

11

密封方式

不銹鋼真空法蘭

12

控溫方式

智能化30段可編程控制,自動控溫

13

控溫精度

±1℃

14

加熱速率

≤20℃

15

加熱元件

進口合金加熱絲

16

熱電偶

K型熱電偶

17

爐膛材料

進口氧化鋁陶瓷纖維

18

功率

2.5Kw

19

氣體通道

可連接3種氣源

20

電源

220v 50Hz~60Hz

21

系統真空

-0.1MPa

22




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